平台优势

Platform advantages

千百级微纳工艺平台        微纳工艺平台作为南湖脑机交叉研究院关键基础平台之一,已建成总面积超400平方米的百级/千级双标准洁净空间,累计投入超3000万元,成功引进包括光刻机(Mask Aligner)、激光直写系统(Laser Direct Writing)、电子束刻蚀机(E-beam Lithography)、磁控溅射仪(Magnetron Sputtering)、等离子气相沉积(PECVD)及反应离子刻蚀机(RE)等近30台国内外先进设备,并通过严格的安装调试与人员系统化培训,实现全平台高效安全运行。同时通过完成电力增容、特气管道改造、冷水机组升级等关键基建适配,显著优化设备运行环境。        平台凭借一流的微纳加工设备和灵活高效的研发生态,现已逐步形成微纳米加工、制造和检测于一体的工艺研发能力,支撑脑电极从概念设计到原型制造的快速迭代。        未来平台将逐步构建成熟的标准化流程和规模化制备工艺:一方面深化规模化制备工艺(如批量神经电极制造),推动原型器件向商业产品转化;另一方面完善“一站式”服务生态,整合微纳加工、制造封装与性能测试功能,力争成为浙江省脑机接口技术产业化的核心引擎。 设备图
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